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我們只生產更高品質的超聲波清洗設備
1、基本參數:
2、行業:半導體材料。 3、用途:用于半導體納米材料的分散提取。 4、設備:該清洗機主要由超聲剝離槽、內循環控溫系統、旋轉攪拌系統、操控系統等組成。 5、清洗流程:手動上料→超聲分散→旋轉攪拌→手動出料。 6、特點:超聲波二維材料剝離器特有的超聲攪拌功能可對相關材料進行更完美的分散提取及剝離處理,不破壞晶型及晶格。
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型號:KQ-300DE.DZ
容量:去污
特點:快速清洗、快速干燥,不影響材料。
型號:KQ-8100TGS.DZ
容量:去油
特點:多種清洗工藝結合不破壞特種鋼材料結構
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